濺鍍薄鉬膜折射率、消光係數與應力隨厚度變化之研究

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題名:	濺鍍薄鉬膜折射率、消光係數與應力隨厚度變化之研究
作者:	江政忠
貢獻者:	光電系
關鍵詞:	鉬、薄膜、直流磁控濺鍍法、折射率、消光係數、穿透率、厚度、應力。
日期:	2020-10
上傳時間:	2020-11-30 09:51:24 (UTC+8)
摘要:	本研究使用直流磁控濺鍍法製作不同厚度之鉬薄膜，厚度分別為 5、10、15、 20、30 與 50nm，並使用橢圓偏光儀與穿透式光譜儀量測鉬薄膜的折射率、消光係數、穿透率與厚度，同時使用干涉相移式菲佐應力量測儀測量鉬薄膜的應力，探討鉬薄膜的折射率、消光係數與應力隨薄膜厚度 5 至 50nm 之變化特性，具備含有鉬薄膜的光學薄膜精準設計能力與製鍍技術。當鉬薄膜厚度逐漸增加，薄膜穿透率逐漸降低，薄膜折射率也逐漸變小，薄膜消光係數則在 10nm 附近至 30nm 附近也有逐漸下降但變小幅度不大的趨勢，薄膜應力則在 15nm 附近至 50nm 附近也有逐漸下降的趨勢，也是下降幅度不大，且在厚度 10nm 附近時膜應力由張應力轉變為壓應力，推測鉬薄膜從島狀態轉變為連續膜狀態。
顯示於類別:	[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

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