English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 1365/1366 (100%)
造訪人次 : 1329153      線上人數 : 664
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧：
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號"，以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋，建議至進階搜尋限定作者欄位，可獲得較完整資料
    •  進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://120.105.36.38/ir/handle/987654321/1406


    題名: 濺鍍薄鉬膜折射率、消光係數與應力隨厚度變化之研究
    作者: 江政忠
    貢獻者: 光電系
    關鍵詞: 鉬、薄膜 、直流磁控濺鍍 法、折射率 、消光係數 、穿透率 、厚度 、應力 。
    日期: 2020-10
    上傳時間: 2020-11-30 09:51:24 (UTC+8)
    摘要: 本研究使用直流磁控濺鍍法製作不同厚度之鉬薄膜，厚度分別為 5、10、15、 20、30 與 50nm，並使用橢圓偏光儀與穿透式光譜儀量測鉬薄膜的折射率、消光係數、穿透率與厚度，同時使用干涉相移式菲佐應力量測儀測量鉬薄膜的應力，探討鉬薄膜的折射率、消光係數與應力隨薄膜厚度 5 至 50nm 之變化特性，具備含有鉬薄膜的光學薄膜精準設計能力與製鍍技術。當鉬薄膜厚度逐漸增加，薄膜穿透率逐漸降低，薄膜折射率也逐漸變小，薄膜消光係數則在 10nm 附近至 30nm 附近也有逐漸下降但變小幅度不大的趨勢，薄膜應力則在 15nm 附近至 50nm 附近也有逐漸下降的趨勢，也是下降幅度不大，且在厚度 10nm 附近時膜應力由張應力轉變為壓應力，推測鉬薄膜從島狀態轉變為連續膜狀態。
    顯示於類別:[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    江政忠.pdf1145KbAdobe PDF0檢視/開啟


    檢視Licence

    在MUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋