English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 1365/1366 (100%)
造訪人次 : 1330248      線上人數 : 512
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧：
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號"，以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋，建議至進階搜尋限定作者欄位，可獲得較完整資料
    •  進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://120.105.36.38/ir/handle/987654321/389


    題名: 菲佐雷射相位移干涉儀量測薄膜應力之研究
    作者: 江政忠
    貢獻者: 光電系統工程系
    關鍵詞: 光學薄膜、應力、光學量測、干涉技術、相位移干涉術、菲佐干涉儀、Hariharan演算法。
    日期: 2009-09-30
    上傳時間: 2010-08-23 13:20:10 (UTC+8)
    摘要: 在業界及學界不斷的研究及創新中，光學薄膜應用已日趨廣泛，且要求愈趨嚴格，
    突顯出光學薄膜品質的重要性，特別是膜層設計層數增多的需求漸漸增加，降低薄膜應
    力的必要性就愈彰顯，而決定薄膜應力量測方法的重要性也相對地提升。自1960 年代
    以來，光電技術、雷射技術及電腦科技的迅速發展，在光學量測技術中大大提高了波面
    相位測量的精度、速度及自動化程度，使干涉測量技術出現一個重大躍遷。在光電相位
    測量技術中都要透過光電接收器相對干涉圖的掃描方式，獲取干涉圖的原始數據，根據
    不同條紋掃描方法而衍生不同技術已陸續發表，其中利用移動參考鏡實現條紋掃描的技
    術稱為相位移干涉術，是目前工業界所倚重的一種量測方法。因此本計畫使用菲佐干涉
    儀，結合Hariharan 五步相位移技術和相位還原法，測量鍍膜前後基板面形的變化量，
    已成功地量測薄膜應力，且具有以下優點，非接觸式全域量測、操作簡單、量測速度快、
    高靈敏度與高精度、震動環境不敏感，以及展示三維膜面輪廓圖及二維應力分佈圖，將
    有助於提升工業界對於薄膜應力的認知與幫助，也有助於提升薄膜應力的學術探討與研
    究。
    顯示於類別:[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    江政忠-組合.pdf958KbAdobe PDF629檢視/開啟


    在MUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋