菲佐雷射相位移干涉儀量測薄膜應力之研究

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题名:	菲佐雷射相位移干涉儀量測薄膜應力之研究
作者:	江政忠
贡献者:	光電系統工程系
关键词:	光學薄膜、應力、光學量測、干涉技術、相位移干涉術、菲佐干涉儀、Hariharan演算法。
日期:	2009-09-30
上传时间:	2010-08-23 13:20:10 (UTC+8)
摘要:	在業界及學界不斷的研究及創新中，光學薄膜應用已日趨廣泛，且要求愈趨嚴格，突顯出光學薄膜品質的重要性，特別是膜層設計層數增多的需求漸漸增加，降低薄膜應力的必要性就愈彰顯，而決定薄膜應力量測方法的重要性也相對地提升。自1960 年代以來，光電技術、雷射技術及電腦科技的迅速發展，在光學量測技術中大大提高了波面相位測量的精度、速度及自動化程度，使干涉測量技術出現一個重大躍遷。在光電相位測量技術中都要透過光電接收器相對干涉圖的掃描方式，獲取干涉圖的原始數據，根據不同條紋掃描方法而衍生不同技術已陸續發表，其中利用移動參考鏡實現條紋掃描的技術稱為相位移干涉術，是目前工業界所倚重的一種量測方法。因此本計畫使用菲佐干涉儀，結合Hariharan 五步相位移技術和相位還原法，測量鍍膜前後基板面形的變化量，已成功地量測薄膜應力，且具有以下優點，非接觸式全域量測、操作簡單、量測速度快、高靈敏度與高精度、震動環境不敏感，以及展示三維膜面輪廓圖及二維應力分佈圖，將有助於提升工業界對於薄膜應力的認知與幫助，也有助於提升薄膜應力的學術探討與研究。
显示于类别:	[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

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