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--校內專題研究計畫
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Item 987654321/1262
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http://120.105.36.38/ir/handle/987654321/1262
題名:
迴焊爐內熱流場域的模擬分析
作者:
趙守嚴
貢獻者:
電子工程系
關鍵詞:
迴焊爐、ANSYS 模擬分析、迴焊溫度曲線、熱應變
日期:
2018-10-30
上傳時間:
2018-12-17
摘要:
由於電子產品的發展要求為重量輕、尺寸小,高品質且低價位,因此所有消費性電
子產品幾乎需藉由表面黏著(SMT)生產技術,其中迴焊為直接影響焊接品質很重要的製
程。迴焊過程中,爐內無論使用含鉛(Sn63/Pb37)或無鉛(SAC305)的焊錫都必經過預熱、
吸熱(浸潤)、迴焊及冷卻等四個區域的溫程控制。從各廠家所開發提供之溫度控制曲線
都蠻相似的結果來看,溫控設計參數應已臻成熟。但即是如此,仍有一些影響貼焊(solding)
可靠度的因素存在,以使用氮氣灌入爐內降低含氧量為例,其所衍生出貼焊效率問題就
值得去重視與解決。
有鑑於此,本研究希望使用 ANSYS 模擬軟體,分析迴焊爐的內部流場分佈情形。
結果顯示:使用silicon 密封時,不但能提升焊道迴焊區與上緣抽氣端的對流效益,使迴
焊時溫度較易上升至320~340℃。同時也能克服熱應力所引起爐體各組合元件熱應變的
不匹配所衍生的氮氣洩露。
顯示於類別:
[電子工程系] 校內專題研究計畫
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