English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 1365/1366 (100%)
造訪人次 : 1332007      線上人數 : 775
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://120.105.36.38/ir/handle/987654321/1197


    題名: 攙N雜質MOHOS型元件作游離輻射劑量計之研究
    作者: 謝文靚
    貢獻者: 光電系
    關鍵詞: SOHOS、電容、輻射偵測器
    日期: 2017-10
    上傳時間: 2017-12-29 15:54:49 (UTC+8)
    摘要: 跟傳統的偵測器比較,半導體劑量計有高靈敏度,尺寸小,重量輕和線性測量的輸
    出特性。但是以半導體技術製作的典型GAMMA 輻射偵測器-金屬氧化矽半導體,被儲存
    的劑量數據在高溫下容易揮發。在本計畫的攙N 雜質MOHOS 電容元件因輻射作用而產生
    的電荷可被長久儲存在攙N 雜質MOHOS 電容元件內而不揮發,同時電荷也可被累積儲存
    在攙N 雜質MOHOS 電容元件內長久而不揮發。攙N 雜質MOHOS 電容元件內被累積儲存的
    電荷量與入射輻射劑量成正比。
    在本計畫的攙N 雜質MOHOS 型元件因輻射作用而產生的電荷可被長久儲存在攙鋁雜
    質MOHOS 電容元件內而不揮發,同時電荷也可被累積儲存在攙N 雜質MOHOS 電容元件內
    長久而不揮發。攙N 雜質MOHOS 電容元件內被累積儲存的電荷量與入射輻射劑量成正
    比。本計畫利用熱成長與低壓化學氣相沉積成長了攙N 雜質MOHOS 電容元件結構;結果
    可看出各電容元件照射輻射不同劑量之後,CV 曲線明顯平移,由CV 曲線平移反推可知
    與劑量呈現正比關係,而表示攙N 雜質MOHOS 電容元件閘極介電質層的正缺陷電荷數量
    增加改變,使攙N 雜質MOHOS 電容元件的VT 值變小,且不同結構吸收了同劑量輻射後
    CV 曲線平移改變的量也不同,所以攙N 雜質MOHOS 電容元件可用於γ射線劑量計且寫入
    γ-ray 之後的VT 改變和γ-ray 曝光的劑量是正比的關聯,因此本篇論文證明攙N 雜質
    MOHOS 電容元件可用於γ射線劑量計的可能性
    顯示於類別:[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    謝文靚成果報告.pdf375KbAdobe PDF68檢視/開啟


    在MUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.


    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋