觸控面板用之光學薄膜材料製程開發

MUSTIR > College of Service Industries > Department of Child Development and Education > Research Projects in School > Item 987654321/646

Please use this identifier to cite or link to this item: http://120.105.36.38/ir/handle/987654321/646

Title:	觸控面板用之光學薄膜材料製程開發
Authors:	唐謙仁
Contributors:	光電系統工程系
Keywords:	觸控面板、氧化銦錫、透明導電氧化物薄膜、五氧化二鈮、二氧化矽、干涉式光學多層膜
Date:	2011-12
Issue Date:	2012-05-10 14:47:51 (UTC+8)
Abstract:	觸控面板的應用非常的廣泛，而大部份的觸控面板多應用於中小面板之顯示器，其中電容式觸控面板可進行多點觸控，且面板須具有高穿透率，因此除了對透明導電膜材料氧化銦錫(ITO)進行電性及光學特性之研究外，還須加入多層干涉光學薄膜之製程，本計畫中預計將氧化銦錫透明導電膜與五氧化二鈮 (Nb2O5)及二氧化矽(SiO2)兩種介電質薄膜搭配光學薄膜設計之概念加入電容式觸控面板之應用，若將光學薄膜設計應用於電容式觸控面板中將大幅提升觸控面板之性能，包含提高穿透率、降低反射率及低電阻系數之透明導電膜，本計劃的執行方法主要分為兩部份， (一)利用磁控濺鍍法製鍍氧化銦錫透明導電膜及五氧化二鈮及二氧化矽介電質薄膜之特性量測分析、 (二)高穿透率透明導電膜之設計與製鍍方法研究，結合材料之電性及光學常數進行多層干涉光學薄膜之製程，以完成具有符合電容式觸控面板之電性及光學特性的多層光學膜堆。
Appears in Collections:	[Department of Child Development and Education] Research Projects in School

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
觸控面板用之光學薄膜材料製程開發.pdf		1720Kb	Adobe PDF	101	View/Open