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    題名: 濺鍍高熵合金薄膜之研究
    作者: 江政忠
    貢獻者: 光電系統工程系
    關鍵詞: 硬質薄膜、氮化物薄膜、高熵合金薄膜、薄膜微結構、薄膜機械性質。
    日期: 2010-12
    上傳時間: 2011-06-21 14:14:46 (UTC+8)
    摘要: 針對改善耐久性材料耗損，表面鍍膜是一種有效的方法，透過選擇正確方法和鍍膜
    材料，可提高其壽命及增加商業價值，對於表面性質的提升，一般來說是以沉積硬質薄
    膜來增加其耐久性。由於目前單一材料氮化物已發展至極限，所以近年來著重利用兩種
    以上的奈米相做成複合薄膜以提高強度及硬度，針對這方面研究需要多元合金鍍膜，來
    達到晶粒或晶相的奈米化，一般以三、四元以上的多元素來製鍍薄膜，所以近年來發展
    出高熵合金薄膜。本計畫已使用射頻磁控反應濺鍍法濺鍍TiVCrZrTa 等莫耳五元高熵合
    金靶材，成功地製鍍高熵合金TiVCrZrTa 氮化物硬質薄膜，探討在不同的氮氣流量比
    例下(10%－90%)所製鍍之(TiVCrZrTa)N 薄膜特性及微結構。(TiVCrZrTa)N 薄膜沉積速
    率，隨著氮氣流量比例增加而降低，且隨著氮氣流量的增加，使得薄膜中的氮含量逐
    漸提高。由掃描式電子顯微鏡觀察可發現， 不同的氮氣流量比例下所製鍍之
    (TiVCrZrTa)N 薄膜，均呈現柱狀結構，而由X 光繞射儀量測結果可知，薄膜主要優選
    方向為(111)，且穿透式電子顯微鏡觀測結果得知薄膜呈現面心立方晶體結構。在氮流
    量比例10%時所製鍍獲得之(TiVCrZrTa)N 薄膜具有最高的薄膜硬度，其值為27 GPa，
    最大的薄膜壓應力，其值為2.2GPa，與最粗糙的薄膜表面，表面粗糙度為2.4nm。
    顯示於類別:[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

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