應用類神經螞蟻演算法於50 奈米接觸洞微影製程參數最佳化之研究

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題名:	應用類神經螞蟻演算法於50 奈米接觸洞微影製程參數最佳化之研究
作者:	李得盛
貢獻者:	工業工程與管理系
關鍵詞:	奈米、微影製程、線寬、熱流法、田口方法、類神經網路、螞蟻演算法
日期:	2009-09-30
上傳時間:	2010-08-24 09:14:50 (UTC+8)
摘要:	隨著半導體技術的演進與製程技術的進步，元件的大小從微米 (micrometer) 漸漸走向奈米(nanometer)，因此有許多新的奈米製程技術便應運而生。積體電路IC 的研究主要集中在兩個目標，其一是提高積體電路的速度以提昇電路的績效，其二是增進電路的功能。當積體電路隨著奈米製程技術的進步，元件的尺寸縮小才能有效達成上述兩個目標。微影製程在積體電路奈米製程中是最重要的步驟，而微影製程中線寬則是最重要的製程參數，其會直接影響元件之效能與速度。根據國際半導體科技藍圖(International Technology Roadmap for Semiconductor, ITRS) 2004 年的預測，針對客製化IC 接觸洞線寬在2007 年達到65 奈米，2010 年達到45 奈米。本研究目的為提出一結合田口部份因子實驗、類神經網路建模技術與螞蟻最佳化演算法的架構。其中田口方法使用信號雜音比、變異數分析法分析實驗相關因子；而類神經網路則建立可控制參數與品質回應值之間的關係。但是，類神經網路所得之解可能只是區域的可行解。所以，最後在應用螞蟻演算法以進一步求解最佳化的問題。所提的架構用來決定50 奈米以下接觸洞的微影製程上的最佳製程參數。
顯示於類別:	[工業工程與管理系] 校內專題研究計畫

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