大角度廣波域抗反射薄膜之研製與應用

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Title:	大角度廣波域抗反射薄膜之研製與應用
Authors:	江政忠
Contributors:	光電系
Keywords:	大角度廣波域抗反射薄膜、抗反射薄膜、五氧化二鉭、氟化鎂、短路電流、光電轉換效率
Date:	2021-10
Issue Date:	2021-11-11 15:57:03 (UTC+8)
Abstract:	本計畫在玻璃基板上製鍍大角度廣波域抗反射薄膜，考慮入射角度0度、30度、40度與50度，波長範圍為350nm至950nm，其平均穿透率增加4.99%，是以電子槍蒸鍍法製作多層五氧化二鉭薄膜和氟化鎂薄膜的光學薄膜組合，並將此大角度廣波域抗反射薄膜製鍍於螢光粉太陽能集光器，提高太陽能板的短路電流與光電轉換效率。計畫中使用不同蒸鍍速率製鍍氟化鎂薄膜，量測並分析氟化鎂薄膜的穿透率光譜、折射率與消光係數，獲得蒸鍍速率0.2nm/s為氟化鎂薄膜的最佳製程蒸鍍速率。並使用Essential Macleod 光學薄膜軟體進行大角度廣波域範圍優化薄膜膜層厚度，設計與製鍍11層大角度廣波域抗反射薄膜MgF2(37.4nm)/Ta2O5(4.2nm)/MgF2(190.4nm)/Ta2O5 (10.8nm)/MgF2(46.2nm)/Ta2O5(33.2nm)/MgF2(17nm)/Ta2O5(83.3nm)/MgF2(17.4nm)/Ta2O5(30.5nm)/MgF2(105.9nm)。薄膜的穿透率光譜、折射率與消光係數經由穿透式光譜儀與橢圓偏光儀量測獲得，螢光粉太陽能集光器的太陽能板短路電流與光電轉換效率是由太陽光模擬器量測獲得。
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