Minghsin University Institutional Repository:Item 987654321/1407
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    題名: 雙層透明導電薄膜應用於異質接面太陽電池多晶矽鈍化層之研究
    作者: 李憶興
    貢獻者: 光電系
    關鍵詞: 太陽 能電池 鈍化結構、異質接面電池雙層 透明導電膜、抗反射層
    日期: 2020-10
    上傳時間: 2020-11-30 10:00:42 (UTC+8)
    摘要: 本專題主要研究目的是太陽能電池N-type之多晶矽(poly poly-Silicon) Silicon) 鈍化層研究，並於使用雙層透明導電薄膜作為 poly poly-Si 異質接面結構太陽能電池之抗反射異質接面結構太陽能電池之抗反射層，且利用層，且利用高、低折射率之高、低折射率之高、低折射率之高、低折射率之雙透明導電膜間 雙層透明導電膜間雙層透明導電膜間雙層透明導電膜間 的漸層方式，使表面反射率降低的漸層方式，使表面反射率降低的漸層方式，使表面反射率降低的漸層方式，使表面反射率降低 的漸層方式，使表面反射率降低 的漸層方式，使表面反射率降低 並維持高穿透率。
    首先，我們的鈍化接觸結構用於磷摻雜n-poly poly-Si 覆蓋的超薄（〜 覆蓋的超薄（〜 1.7 nm 1.7 nm ） 隧道氧化物 穿隧層，我們使用熱氧化的方式製備並於適當程氣體穿隧層，我們使用熱氧化的方式製備並於適當程氣體穿隧層，我們使用熱氧化的方式製備並於適當程氣體 SiHSiH 4/P H3、 SiHSiH 4/B 2H6之比率使其結晶摻雜，之比率使其結晶摻雜，之比率使其結晶摻雜，然後用以高溫退火方式產生較的界面鈍化效果。 後用以高溫退火方式產生較的界面鈍化效果。實驗結果在退火溫度875℃ 875℃時間為30分鐘時poly poly鈍化效果有較優異的表現，其鈍化效果有較優異的表現，其n-poly poly與 p-poly poly poly 矽之載子生命週期分別可達矽之載子生命週期分別可達3224 μs與 46 52 μs。
    通過使用最佳 TNO TNO (Nb doping TiO (Nb doping TiO(Nb doping TiO(Nb doping TiO (Nb doping TiO(Nb doping TiO(Nb doping TiO 2)和 ITOITOITO (Indium(Indium(Indium(Indium -tin oxide) tin oxide) tin oxide)tin oxide)tin oxide) 實驗條件，然後利用 ITOITOITO和 TNO TNO薄膜的光學常數進行薄膜的光學常數進行 Macleod MacleodMacleod Macleod模擬雙層 ITO / TNOITO / TNOITO / TNO ITO / TNO ITO / TNO厚度組合的光 學性能趨勢； 學性能趨勢； 接著在 poly poly-Si 上以磁控濺鍍製備摻鈮之 TN O薄膜，最 後在 TNO TNO薄膜上利用直流磁控沉積 ITOITOITO薄膜，在可見光波段中在可見光波段中其中心波長 550nm，基板為玻 璃時 ITO/TNOITO/TNOITO/TNO ITO/TNO雙層膜厚為 雙層膜厚為 80/20nm 有最低反射率 11.1%11.1% ，基板為矽時，基板為矽時 ITO/TNOITO/TNOITO/TNO ITO/TNO雙層膜厚為 70/30nm 有最低反射率 17.4% ；以矽晶太陽能電池最佳光子吸收波段在 900nm ，當 ITO/TNOITO/TNOITO/TNO ITO/TNO 雙層膜厚為 80/20 、70/30nm 70/30nm 時最低反射率分別為 0.07% 與 0.95% ，結果說明雙層膜 ITO/TNOITO/TNOITO/TNO ITO/TNO沉積於矽基板在近紅外光區域反射率改善的效 沉積於矽基板在近紅外光區域反射率改善的效果最顯著。根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射率不同，使用矽時會有漸進式根據基板之間折射 率不同，使用矽時會有漸進式(1 /1.98/2.41/3.9) /1.98/2.41/3.9)，在近紅外線波段之抗反射效果也有明顯改善之優勢 。
    顯示於類別:[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

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