寬波域抗反射鍍膜設計與製造之研究

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題名:	寬波域抗反射鍍膜設計與製造之研究
作者:	江政忠
貢獻者:	光電系統工程系
關鍵詞:	五氧化二鉭、氟化鎂、二氧化矽、寬波域、抗反射薄膜、電子槍蒸鍍法、穿透率、折射率、消光係數、應力、拓寬層。
日期:	2019-10-31
上傳時間:	2020-01-10 11:22:54 (UTC+8)
摘要:	本研究使用五氧化二鉭薄膜和氟化鎂薄膜的多層薄膜組合與五氧化二鉭薄膜和二氧化矽薄膜的多層薄膜組合，分別以電子槍蒸鍍法完成製鍍波長範圍 350nm 至950nm 平均穿透率達到 99.1%與 98.7%的寬波域抗反射鍍膜，其抗反射效果已從可見光區域延伸至近紅外線區域。計畫中使用不同通氧量蒸鍍五氧化二鉭薄膜，量測並分析五氧化二鉭薄膜的穿透率光譜、折射率、消光係數與應力，獲得蒸鍍五氧化二鉭薄膜的最佳製程參數為通氧量 7 sccm 製鍍五氧化二鉭薄膜，並使用 Essential Macleod 光學薄膜軟體進行擴大拓寬層波長範圍與優化薄膜膜層厚度。薄膜的穿透率光譜、折射率與消光係數經由穿透式光譜儀與橢圓偏光儀量測獲得，並使用干涉相移式菲佐應力量測儀測量薄膜應力。
顯示於類別:	[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

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