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    題名: 雷 射 切 割 技 術 應 用 於 結 合 物 聯 網 之 智 慧 型 植 栽 裝 置 晶 片 製 作 的 後 製 程
    作者: 蔡健忠
    貢獻者: 光電系
    關鍵詞: 溼度開關、CMOS-MEMS、微流道
    日期: 2017-10
    上傳時間: 2017-12-29 13:23:07 (UTC+8)
    摘要: 透過半導體的標準製程(CMOS)所整合開發出來的CMOS-MEMS 元件,
    隨著行動裝置的普及和物聯網(IoT)熱潮的驅使下,CMOS-MEMS 元件的應用
    已成為趨勢,其中以加速度計、陀螺儀、MEMS 麥克風和壓力感測器最廣為人
    知。隨著元件朝著體積小、高效能與高整合性發展的同時,製程技術在一致性、
    準確度以及細緻度的要求也越來越高。利用雷射具有的單色性、指向性、同調性
    和高強度等特質的加工技術也越來越多,例如:雷射切割、雷射焊接、雷射雕刻、
    雷射焠火等,而應用在半導體的相關製程則有晶圓切割、定位校準和微影製程等,
    除此之外,電子業運用在噴墨印表機噴墨頭上的噴墨孔加工,更是突顯雷射加工
    具有高度的一致性與精確度。
    CMOS-MEMS 晶片的後製程也有雷射技術可以運用的部分, 以
    CMOS-MEMS 標準製程為例,該製程除了基板之外尚有Poly、Oxide、Via、Metal
    和Passivation 各種不同的材質層,由於這些不同的材質層對於不同波長的雷射吸
    收係數都不同,因此,利用雷射對晶片結構的鑽孔與蝕刻、電路除錯和修改或是
    鈍化層的清除,選用該材質層吸收效率最高的雷射波段,對於雷射加工而言是很
    重要的參數設置。此外,適當的功率調整不僅可以提高加工效率,還可以避免結
    構的損壞或加工不完全的情況發生。
    本研究計畫使用兩種不同波長的雷射(355nm 和532nm),透過不同的雷射
    波段與功率調整下,找到雷射加工運用在CMOS-MEMS 晶片後製程上的最佳設
    置參數,可導入自動化生產與量產,此符合工學院中程目標生產力4.0 的主題。
    此外,完成製作之晶片可透過物聯網之技術整合成一個模組,不僅可以遠端監控
    植栽的溫濕度變化與影像,還具有自動澆水之功能,因此,本計畫相當符合工學
    院所訂定之任務型計畫涵蓋「物聯網之技術與應用」。
    顯示於類別:[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

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