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    題名: 以六標準差手法改善黑色陣列製程的共通缺陷率研究
    作者: 黃文昌
    貢獻者: 工業工程與管理系
    關鍵詞: 彩色濾光片、黑色矩陣、六標準差
    日期: 2016-10
    上傳時間: 2017-01-10 12:12:57 (UTC+8)
    摘要: 本研究以六標準差改善手法，進行個案公司(TFT-LCD面板廠)在彩色濾光片黑色矩陣製程生產階段，所遭遇到的製程設備問題為主題，在為減少製造人力以及時間的浪費前提下，能有一系統性的解決方案，以提升生產效能，從而大幅提升改善共通缺陷發生後所帶來的績效。因此，本研究之目的如下：
    一、為了降低共通缺陷的發生率，透過探討個案公司的黑色矩陣製程中的問題所在，並評估以六標準差手法進行製程改善之可行性。
    二、 針對黑色矩陣製程生產流程進行分析，系統化應用六標準差之(D-M-A-I-C)等五大改善步驟循環，輔以流程圖、 特性要因分析等工具，找出造成共通缺陷的關鍵因子，再依分析結果進行改善控制，最終檢視導入六標準差改善活動之成效，可做為其他 TFT-LCD 面板廠的製程改善參考。
    顯示於類別:[工業工程與管理系] 校內專題研究計畫

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