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    題名: 單一膜厚均勻性修正板應用於三種鍍膜材料之研究
    作者: 江政忠
    貢獻者: 光電系統工程系
    關鍵詞: 蒸氣參數、修正板、薄膜、厚度、均勻性、電子槍鍍膜機、二氧化鈦、二氧化矽、銀
    日期: 2016-10
    上傳時間: 2017-01-09 15:05:46 (UTC+8)
    摘要: 由於科技日新月異，產品不斷更新，薄膜應用趨向多元化，往往需要製鍍兩種
    以上不同材料之薄膜，才能達成需求之功能，但薄膜材料有各自不同的蒸發源蒸氣
    參數，將使同一鍋不同材質薄膜的厚度分佈不一致，導致薄膜均勻性與鍍膜良率不
    佳，提高生產成本。本計畫成功地設計適用三種鍍膜材料之薄膜厚度均勻性修正
    板，並探討不同蒸氣參數的三種蒸發源對同一鍍膜修正板之薄膜厚度均勻性的影
    響，且根據本實驗室電子槍鍍膜機，設計適合三種鍍膜材料的單一膜厚均勻性修正
    板，並實際進行蒸鍍實驗，以驗證此修正板的膜厚均勻性功能與設計方法，此三種
    鍍膜材料分別為二氧化鈦、二氧化矽與銀。本計畫三種鍍膜材料薄膜厚度均勻性修
    正板的設計方法，不僅使三種鍍膜材料可以維持良好的薄膜厚度均勻性，且可提高
    量產製程穩定度、生產良率與生產容量，以降低生產成本。
    顯示於類別:[光電系統工程系] 校內專題研究計畫

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